Sistemas automatizados de medición de espesores de película
El sistema de medición de espesor de película UTS-2000 (para capas epitaxiales) es un método de análisis no destructivo sin contacto que utiliza los últimos algoritmos interferométricos para proporcionar una medición de espesor de película muy precisa. Utilizando un método de análisis de frecuencia patentado, el espectro de interferencia de la muestra se convierte en un “diagrama espacial” y el grosor de la película se calcula con un grado muy alto de precisión. Este sistema integrado ofrece medidas de espesor de película requeridas por los estándares exigentes de la industria de semiconductores, incluyendo cartografía de muestras de alta velocidad, un amplio rango de medición de espesor y soporta los requisitos de análisis de pruebas de proceso a I + D. El UTS-2000 puede configurarse con infrarrojo cercano o infrarrojo medio según las medidas de espesor requeridas.
características del sistema
Rango de medicion
Medir el sustrato con un grosor de 0,25 a 750 μm.
Medidas de espesor de película muy precisas
Medición de datos de precisión utilizando un interferómetro de alta precisión y óptica de alto rendimiento.
Cassette Multi-Wafer para Robots
Sistema de muestreo automatizado de casetes opcional para la medición totalmente automatizada de casetes de múltiples obleas.
Sistema operativo simple
Varias condiciones para la medición, mapeo y cálculos de espesor de película se configuran como métodos preestablecidos y se administran en una tabla de métodos. La medición del espesor de la película se inicia simplemente seleccionando un método requerido de la tabla y haciendo clic en el botón ‘Medir’.
Visión general de la interfaz de medición para el UTS-2000
- Detalles de la medición Información para un análisis
- Franja o espectro de ‘Spatialgram’
- Mapa de puntos de medición
- Gráfico de la distribución del grosor de la película en la muestra
Reproducibilidad de alta medición
La tabla siguiente muestra resultados de medición consecutivos para una prueba de control de calidad de una capa epitaxial sobre un sustrato de silicio. El error de 10 mediciones consecutivas es mejor que ± 0,001 μm. Estas figuras demuestran medidas de espesor de película extremadamente reproducibles obtenidas usando el UTS-2000.
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